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특허공학입문
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| 저자 |
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谷川 英和
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| 출판사 |
: |
중앙경제사 |
| 출판년도 |
: |
2004.03.01 |
| 페이지수 |
: |
157
( 권수 : 1 )
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| 판차사항 |
: |
2 |
| I S B N |
: |
4502909602 |
| 정가 |
: |
2,500￥
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| 판매가 |
: |
41,000원
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| 특징 |
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발명의 벽을 낮추고 특허의 취득활동을 고품질화, 고효율화 하기 위한 수법을 공학적인 어프로치로 집대성. 지적재산권 입국을 추진하기 위한 획기적인 제안서. |
| 주요목차 |
1장 특허공학이라는 것은
2장 특허권취득까지의 프로세스
3장 발명착상 Phase(단계)
4장 발명추출단계
5장 특허조사단계
6장 명세서 작성 단계
7장 중간처리 단계
8장 특허명세서 품질
9장 특허명세서 작성 스킬의 성숙도 모델
10장 특허출원 시기
11장 특허출원 국가 |
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특허 서점 
