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2006『LCD 제조 장비』기술 및 시장ㆍ특허분석보고서
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| 저자 |
: |
한국특허정보원
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| 출판사 |
: |
한국특허정보원 |
| 출판년도 |
: |
2006.10.01 |
| 페이지수 |
: |
146
( 권수 : 1 )
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| I S B N |
: |
2006133101 |
| 정가 |
: |
80,000원
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| 판매가 |
: |
80,000원
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| 특징 |
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본 보고서는 LCD제조 장비분야의 특허ㆍ기술 및 시장동향을 한꺼번에 살펴봄으로써 그 분석결과를 토대로 LCD제조 장비 분야를 연구하고 정확도 높은 미래기술을 예측하는데 도움을 주고자 하며 아울러 산업계/학계/연구계의 기술개발에 특허정보를 보다 적극적으로 활용토록 하고자 함에 그 목적이 있습니다. |
| 주요목차 |
제1장 서 론
보고서 작성 목적 및 배경
제2장 LCD 제조 장비의 기술 및 시장동향
■ LCD 제조 장비의 기술 동향
1. 레이저 절단 장치
1.1 기판 절단 장비
1.2 레이저 절단 관련 업체
2. 액정 적하 장치
2.1 액정 주입 장치 (공지기술)
2.2 액정 적하 장치
3. LCD 노광 기술
3.1 CF 노광장치
3.2 TFT 노광 장치
4. SEAL 공정장비의 기술 분류
4.1 SEAL 인쇄장치
4.2 SEAL 봉지장치
4.3 SEAL 경화공정
5. LCD 식각 기술
5.1 습식 식각(wet etching)
5.2 건식 식각 (dry etching)
6. LCD 검사 장비
6.1 LCD AOI (광학 검사장치)
6.2 Probe Station (회로 검사장치)
6.3 LCD 백라이트 유닛의 검사장치 (광학 검사장치)
6.4 LCD 모듈의 검사장치(광학 검사장치)
7. LCD 증착 기술
7.1 물리적 증착 기술(PVD)
7.2 화학적 증착 기술(CVD)
■ LCD 제조 장비의 시장동향
1. 세계 TFT-LCD 시장 전망
2. 세계 TFT-LCD 장비 시장 동향
제3장 LCD 제조 장비의 세부주제별 특허동향
■ LCD 제조 장비 특허의 전반적 동향
1. 한국의 특허동향
1.1 연도별 기술별 특허동향
1.2 기술별 국가별 특허동향
1.3 기술별 연구주체별 특허동향
■ 레이저 절단 장치의 특허 동향
1. 레이저 절단 장치의 분석 기준
1.1 분석 방법
1.2 분석 대상 및 분석 건수
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 내·외국인 출원 분포
3. 한국의 특허동향
3.1 기술 발전 포트폴리오
3.2 연도별 특허동향
3.3 출원인별 특허동향
3.4 국가별 특허 점유율
3.5 IPC 기술분류별 특허동향
4. 일본의 특허동향
4.1 기술 발전 포트폴리오
4.2 연도별 특허동향
4.3 출원인별 특허동향
4.4 국가별 특허 점유율
4.5 IPC 기술분류별 특허동향
■ 액정(Liquid Crystal) 적하 장치
1. 액정 적하장치의 분석 기준
1.1 분석 방법
1.2 분석 대상 및 분석 건수
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 내·외국인 출원 분포
3. 한국의 특허동향
3.1 기술 발전 포트폴리오
3.2 연도별 특허동향
3.3 출원인별 특허동향
3.4 국가별 특허 점유율
3.5 IPC 기술분류별 특허동향
4. 일본의 특허동향
4.1 기술 발전 포트폴리오
4.2 연도별 특허동향
4.3 출원인별 특허동향
4.4 국가별 특허 점유율
4.5 IPC 기술분류별 특허동향
■ LCD 노광장비 분야 특허동향
1. LCD 노광장비 분야 분석기준
1.1 분석범위
1.2 검색식
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 특허동향
2.3 포트폴리오로 본 식각장비분야의 위치
3. 한국의 특허동향
3.1 연도별 특허동향
3.2 출원인별 특허동향
3.3 국가별 점유율
3.4 IPC 기술분류별 특허동향
4. 일본의 특허동향
4.1 연도별 특허동향
4.2 출원인별 특허동향
4.3 국가별 점유율
4.4 IPC 기술분류별 특허동향
■ SEAL 공정 장비
1. SEAL 공정장비의 특허 분석 기준
1.1 분석 방법
1.2 검색식 및 분석 자료 개수
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 내·외국인 출원 분포
3. 한국의 특허동향
3.1 기술 발전 포트폴리오
3.2 연도별 특허동향
3.3 출원인별 특허동향
3.4 기술분류별 특허동향
3.5 국가별 특허 점유율
4. 일본의 특허동향
4.1 기술 발전 포트폴리오
4.2 연도별 특허동향
4.3 출원인별 특허동향
4.4 기술분류별 특허동향
4.5 국가별 특허 점유율
■ LCD 식각장비 분야 특허동향
1. LCD 식각장비 분야 분석기준
1.1 분석범위
1.2 검색식
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 특허동향
2.3 포트폴리오로 본 식각장비분야의 위치
3. 한국의 특허동향
3.1 연도별 특허동향
3.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인
3.3 국가별 점유율
3.4 기술별 특허동향
3.5 IPC 기술분류별 특허동향
4. 일본의 특허동향
4.1 연도별 특허동향
4.2 출원인별 특허점유율 및 주요출원인
4.3 국가별 점유율
4.4 기술별 특허동향
4.5 IPC 기술분류별 특허동향
■ LCD 검사장비 분야 특허동향
1. LCD 검사장비 분야 분석기준
1.1 검색식
2. 전세계 특허동향
2.1 연도별 특허동향
2.2 국가별 특허동향
2.3 포트폴리오로 본 검사 장비분야의 위치
3. 한국의 특허동향
3.1 연도별 특허동향 |
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