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모아 산업재산권법 제2판
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저자 |
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공경식
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출판사 |
: |
한빛지적소유권센터 |
출판년도 |
: |
2008.10.15 |
페이지수 |
: |
293
( 권수 : 1 )
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I S B N |
: |
8959611050 |
정가 |
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18,000원
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판매가 |
: |
16,200원
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특징 |
제2판을 내면서
초판이 발간된 이후 예정되었던 한미 FTA협상 결과를 반영한 산업재산권법 개정은 이루어지지 않았으나, 보완의 필요성을 느껴 불가피하게 개정하게 되었습니다.
이번 개정은 주로 주요 판례를 추가하는데 주력하였고, 초판 이후 개정된 하부법령과 심사기준의 내용도 반영하였습니다. 또한, 초판 내용 중 보완이 필요하다고 판단된 부분에 대한 내용의 추가도 이루어졌습니다.
본서가 수험생 여러분의 효율적인 수험공부에 도움을 줄 수 있는 정리교재가 된다면 더 바랄 것이 없을 것입니다.
마지막으로, 본서의 출판에 도움을 주신 한빛지적소유권센터의 황춘자 이사님과 출판부 김소영 대리님께 깊은 감사를 드립니다.
2008년 10월
공 경 식 |
주요목차 |
Part 1 특허법.실용신안법
1.총칙
2.발명
3.특허요건
4.출원
5.심사
6.등록절차
7.특허권
8.특허권자의 보호
9.심판Ⅰ(심판총칙)
10.심판Ⅱ(심판각칙)
11.재심,소송 및 조약
12.특허협력조약에 의한 국제출원
13.실용신안법
Part 2 상표법
1.상표법의 목적
2.상표
3.등록요건(1)
4.등록요건(2)
5.출원
6.심사 및 등록절차
7.상표권
8.상표권자의 보호
9.심판
10.마드리드의 정서에 의한 국제 출원 및 도메인이름
Part 3 디자인보호법
1.총칙
2.디자인(성립요건)
3.등록요건
4.특유제도
5.출원 및 심사
6.디자인권
7.심판(산업재산권법간 심판제도 비교) |
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